最新消息11月5日消息 据每日经济新闻报道，世界光刻机巨头ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV光刻机的企业，由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机，所以此次展示的是其DUV光刻机。据了解，该产品可生产7nm及以上制程芯片。

另外，ASML也带来了其整体光刻解决方案，包括先进控制能力的光刻机台计算光刻和测量通过建模、仿真、分析等技术，让边缘定位精度不断提高。

光刻机（Mask Aligner) 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

最新消息获悉，作为全球芯片光刻技术的领导者，本次ASML（阿斯麦）以“光刻未来，携手同行”为主题亮相第三届进博会技术装备展区。时间是2021年11月5日至10日，位于技术装备展区3C6-002。

亮点如下:

ASML 整体光刻解决方案，全方位保驾护航芯片生产的良率和产能。

光刻机模型近距离接触，带你领略光刻的神奇。